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线列式PECVD等离子体化学气相沉积镀膜设备
编号:SN20151013154830471
类别:PECVD系列等离子体化学气相沉积镀膜设备
  • 产品概述
  • 规格参数
  • 服务支持

    设备用途

        本设备采用等离子体增强化学气相沉积技术绑定账号送38体验金 ,在光学玻璃绑定账号送38体验金 、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜绑定账号送38体验金 ,用以制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件?绑定账号送38体验金 ?晒惴河τ糜诖笞ㄔ盒?、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。

     

    设备组成

        多室CVD结构由2个进出片室、3个独立PECVD反应真空室按直线结构连接,工件通过传输机构输送到各个真空室中进行工艺处理,各真空室间用插板阀连接绑定账号送38体验金 绑定账号送38体验金 。该系统主要由真空室绑定账号送38体验金 、真空获得系统绑定账号送38体验金 、射频和甚高频电源绑定账号送38体验金 、衬底加热控温系统、气路系统绑定账号送38体验金 、尾气处理系统、传动系统等部分组成绑定账号送38体验金 。

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