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Cluster PECVD等离子体化学气相沉积镀膜设备
编号:SN20151013154824891
类别:PECVD系列等离子体化学气相沉积镀膜设备
  • 产品概述
  • 规格参数
  • 服务支持

    设备用途

        本设备采用等离子体增强化学气相沉积技术绑定账号送38体验金 ,在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,用以制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件绑定账号送38体验金 ?绑定账号送38体验金 ?晒惴河τ糜诖笞ㄔ盒?、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备绑定账号送38体验金 绑定账号送38体验金 。

     

    设备组成

        该系统主要由1个中央传输室、3个PECVD沉积室和一个进/出片室构成,并预留2个腔室接口后续使用绑定账号送38体验金 。

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